该工程为XX大使馆，基底埋深为5m，局部电梯井6m。
（一）工程地质条件拟建场地位XX路北侧第三使馆区内，地形平坦。根据钻探结果，拟建场地在15m 勘探深度内的地质构成为：地表为人工填土，以下为第四纪冲击层，自上而下分述如下：
1.杂填土：本层厚度0.50～2.70m，层底标高34.84～37.57m。
2.素填土：本层厚度0.40～1.80m，层底标高33.94～36.83m。
3.质黏土：本层厚度9.60～10.80m，层底标高26.12～27.53m。
（二）工程水文地质情况1999 年12 月上旬勘探时，遇到两层地下水，第一层为上层滞水，静止水位埋深0.80～3.20m（相应于标高34.90～36.06m）；第二层为潜水，静止水位埋深14.00m（相应于标高24.22m）。近年最高地下水位标高为36.00m 左右（上层滞水）。